Dise?o, fabricaci?n y utilizaci?n de m?scaras de fotolitograf?a para c?lulas solares
- Format
- MasterThesis
- Status
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- Description
En este trabajo se presenta el proceso completo para obtener m?scaras de fotolitograf?a, cuyo desarrollo empieza desde su concepci?n hasta su aplicaci?n. Las m?scaras a producir ser?n las que se usan en la malla de metalizaci?n, en el aislamiento de equipos o dispositivos tambi?n llamada mesas y por ultimo una tercera m?scara que nunca antes se hab?a fabricado y que ayudara a depositar la capa antireflectante en las c?lulas. Pero para esto primero se mostrar? la motivaci?n existente, la cual es originaria de las personas que trabajan en el grupo de semiconductores III-V del Instituto de energ?a solar. Y en cuya motivaci?n tambi?n se mencionara sobre las anteriores mascaras en donde se hablara sobre el dise?o realizado y los resultados obtenidos en las c?lulas solares de doble uni?n de ese tiempo. Despu?s se ver? la parte netamente de dise?o, en la que consta el uso de la herramienta computacional gr?fica, AutoCAD como tambi?n algunos comentarios y consejos que ayudaran a cualquier usuario con bajos conocimientos en el programa, poder realizar un dise?o de m?scaras de fotolitograf?a. Adem?s se ver?n las reglas o recomendaciones que el fabricante de las m?scaras exige para obtener un buen dise?o y no desperdiciar tiempo en correcciones. Esto se ilustrar? con datos del fabricante y el equipo con el que se fabrica las m?scaras. A continuaci?n, se verificar?n las m?scaras fabricadas por y Toppan y se usar?n en un proceso completo de fotolitograf?a que se hizo en una oblea de 2 pulgadas de GaAs. Por ?ltimo se mostraran las conclusiones o experiencias obtenidas a lo largo de este proceso.
- Publication Year
- 2013
- Language
- spa
- Topic
- ENERG?A SOLAR
FOTOLITOGRAF?A
SEMICONDUCTORES
FOTOM?SCARAS
- Repository
- Repositorio SENESCYT
- Rights
- openAccess
- License
- openAccess